第三代半导体材料之碳化硅 2020年11月09日

第三代半导体材料之碳化硅 气氛炉

真空炉的技术特点，快来了解一下 2020年11月02日

　真空炉作为一种工业生产的助力器，是每个生产厂商都会选择的设备。万事万物的存在，都具有自身的一些属性特点，真空炉自然也不例外。下面小编就为大家介绍真空炉的技术特点

ITO靶材常压烧结工艺进展 2020年11月02日

ITO靶材常压烧结工艺进展 真空热压炉

真空热压炉的结构特点及组成 2020年10月30日

真空热压炉由炉体、炉盖、保温桶、热压装置、发热体和电源、真空系统、水冷却系统及测温系统等组成。

真空炉的原理及组成 2020年10月27日

真空炉是真空环境中进行加热的设备。在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接

ITO靶材烧结工艺 2020年10月26日

ITO靶材烧结工艺